5纳米的极深紫外光。
时间一分一秒地过去。
主监控屏上，一个原本平坦的基线，微微跳动了一下。
随后，一个虽然微弱但清晰可辨的信号峰值，顽强地升了起来！
“有信号了！”一名年轻的研究员忍不住地喊了出来，声音因激动而变得有些失真。
大家心里清楚！
第一台EUV光刻机对华国的重大战略意义！
几乎在同一时间，位于光路末端的EUV功率探测器，传回了第一条数据：107瓦！
一个在ASML看来早已被甩在身后的数字，此刻却让整个控制室陷入了短暂的寂静，随即爆发出巨大的欢呼声！
许多人下意识地拥抱在一起，眼眶瞬间红了。
林南感觉自己的手都在微微颤抖，于是紧紧抓住栏杆，强迫自己冷静下来。
陈延森倒是心态平稳，他抬手压了压，控制室里的欢呼声很快平息。
“提高功率档位！”陈延森继续说道。
EUV光刻机的功率直接决定单位时间内的晶圆处理数量，每一次曝光都需足够的EUV光能量触发光刻胶的光化学反应。
若光源功率低，需延长单次曝光时间或增加脉冲次数，才能满足能量需求，导致单晶圆处理时间变长。
比如200W功率的机型每小时可处理约125片晶圆，而250W机型可提升至每小时170片，产能提升近40%。
技术差一点，就是差了一大截！
而且功率越高，单位晶圆的光刻成本就越低，规模化优势就越强。
闻言，林南立刻收敛心神，右手在控制台上快速滑动，目光紧盯着功率调节界面：“收到！当前目标档位220瓦，升压速率已调至安全阈值，避免等离子体不稳定。”
控制台屏幕上，代表光源功率的数字开始缓慢爬升，每一个数值的跳动，控制室内的呼吸声就跟着沉重一分。
137瓦、168瓦、214瓦……
当数字稳稳停在220瓦时，林南立即看向一旁的光源稳定性监测曲线。
那条代表等离子体约束状态的绿色线条，始终保持着平稳的波动，没有出现任何异常的尖峰或骤降。
系统运行稳定！
“功率稳定在220瓦！等离子体约束状态良好，没有出现能量泄漏！”
林南的声音比刚才响亮了几分，
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